19、脉冲激光沉积制备薄膜的微观结构研究

脉冲激光沉积制备薄膜的微观结构研究

1. WO₃ 薄膜的研究

1.1 研究背景与目的

气体传感器需具备高灵敏度、选择性、短响应时间和稳定性等特点。三氧化钨（WO₃）因生产成本低且对 H₂S、NOₓ、SO₂ 等气体具有高灵敏度，成为极具竞争力的材料。不过，传感器的灵敏度、稳定性和工作时间高度依赖于薄膜的微观结构、厚度、晶粒尺寸和比表面积等因素。本研究旨在探索使用 Nd - YAG 激光通过激光烧蚀法制备纳米晶 WO₃ 薄膜的最佳条件，并运用 XPS、TEM 和 HREM 对薄膜结构进行分析。

1.2 实验过程

• 靶材制备 ：将 WO₃ 粉末在 140 MPa 压力下压实 5 分钟，然后在 1200 °C 下烧结 2 小时制成靶材。
• 薄膜沉积 ：采用 Nd - YAG 激光系统（LOTIS TII，激光波长 λ = 355 nm，能量密度 8.5 J/cm²），在氧气压力为 5 Pa 的环境下，将薄膜沉积在 (100) 取向的 Si 单晶晶片上，沉积时间为 15 分钟。分别在环境温度和 650 °C 下制备薄膜。
• 分析方法 ：使用 X 射线光电子能谱（XPS）研究薄膜的化学成分，通过高分辨电子显微镜（HREM）观察薄膜，采用聚焦离子束（FIB）技术制备薄片，利用 Tecnai G2 透射电子显微镜（工作电压 200 kV，点对点分辨率 0.25 nm）进行透射电子显微镜分析。

1.3 实验结果与讨论